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# 我国光刻胶领域取得新突破!影响多大?

国芯片领域迎来重大进展!北京大学团队利用冷冻电镜技术,首次“看清”光刻胶在显影液中的微观行为,一举打开工艺优化的“黑匣子”。该突破可将晶圆缺陷减少超99%,大幅提升芯片良率,为7纳米及以下先进制程扫清关键障碍,国产替代加速。

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